碳化硅中化学成分和杂质含量的分析
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碳化硅中化学成分和杂质含量的分析

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    2024年9月19日  化学成分分析:通过X射线荧光光谱(XRF)或电感耦合等离子体质谱(ICPMS)等技术,分析碳化硅中的硅和碳含量,以及可能存在的杂质元素。 晶体结构分析 :通过X射线衍射(XRD)技术,确定碳化硅的晶体结构和相组成。

  • 碳化硅含量的测定综述 豆丁网

    2011年3月22日  碳化硅含量是衡量产品质量的一项重要指标,现将各类碳化硅含量的测定方法综述如下:1国家标准1.1中华人民共和国进出口商品检验行业标准(SN/T0256-93)[2]出口碳化硅分析方法:碳化硅含量的测定适用于冶金脱氧剂和耐火材料出口中

  • 碳化硅化学分析方法百度文库

    碳化硅的化学分析方法主要包括元素分析、杂质分析和表面性质分析等。 下面将针对这些内容进行详细介绍。 首先是元素分析。 由于碳化硅主要由碳和硅元素组成,因此通常使用下列方法进行定量分析。 1碳元素分析:可以使用燃烧法,将样品通过高温燃烧

  • 【国家标准】 GB 30451989 碳化硅 化学分析方法 标准

    2015年8月1日  中华人民共和国国家标准GE3045一89碳化硅化学分析方法代餐GB30458Chemicalanalys且amethodsforsiliconcarbide1主皿内容与适用范围本标准规定了碳化硅磨料中的二氧化硅、游离硅、游离碳、总碳、碳化硅、三氧化二铁的测定方法本标准适用于碳化硅磨料及

  • 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱

    2019年11月22日  本标准适用于半绝缘碳化硅材料中痕量杂质(铝、钒)浓度及分布的分析,其中铝、钒的浓度均大 于1×10 15 atoms/cm 3 。 其它杂质的检测可参照本标准。

  • 碳化硅中主要杂质元素的存在形式 XMOL

    2021年11月17日  实验结果表明,Acheson法制备的SiC粉体中O、游离Si、游离C、Fe杂质含量较高,其他微量杂质元素含量顺序为:Ti>Al>Ni> V此外,O杂质主要以非晶SiO 2的形式覆盖在SiC颗粒表面。

  • 碳化硅晶片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

    2023年6月12日  化硅材料的痕量杂质浓度的标准属于空白领域,本文件的制定对第三代半导体材料的特征参数评价及 产业应用具有较强的积极作用。 T/CASAS 032—2023

  • LAICPMS法测定碳化硅器件中杂质元素光谱网

    2024年10月17日  LAICPMS法测定碳化硅器件中杂质元素 发布时间:] 阅读次数:425次 来源: 分析测试百科网 1引言 碳化硅(SiC)陶瓷具有高温强度大、硬度高、耐腐蚀性强、热稳定性佳、耐磨性好等优良特性,在许多领域得到广泛应用。 痕量元素的含量及分布对碳化硅材料的性能有很大影响 [1],因此测定碳化硅中微量元素对控制其质量具有重要意义。 添加

  • LAICPMS法测定碳化硅器件中杂质元素 分析测试百科网

    2018年11月18日  痕量元素的含量及分布对碳化硅材料的性能有很大影响[1],因此测定碳化硅中微量元素对控制其质量具有重要意义。 添加氧化铝和氧化钇的碳化硅经 2000 ℃烧结后器件,具有尺寸大、密度和

  • 等离子体发射光谱法测定碳化硅中的游离总硅含量 道客巴巴

    2014年6月10日  随着使用环境的苛刻要求,碳化硅的纯度要求也越来越高,这就需要准确测定碳化硅粉末中的杂质。 工业用碳化硅粉末的生产一般采用固相法,即通过二氧化硅与碳发生碳热还原反应或者硅粉与炭黑细粉直接在惰性气氛中发生反应而获得。

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